混懸液研磨分散設(shè)備

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

混懸液研磨分散設(shè)備是專注于混懸液體系的高效加工設(shè)備，核心通過研磨介質(zhì)撞擊與高剪切力協(xié)同作用。能打破物料團(tuán)聚顆粒，實(shí)現(xiàn)微米至納米級(jí)細(xì)化，提升混懸液均勻性與穩(wěn)定性，避免分層沉淀。適配醫(yī)藥、化工、食品等行業(yè)，滿足不同粘度混懸液加工需求，操作可控，是保障混懸液產(chǎn)品品質(zhì)的關(guān)鍵設(shè)備。

產(chǎn)品型號(hào)：GMD2000

更新時(shí)間：2025-11-11

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

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混懸液研磨分散設(shè)備

混懸劑（suspensions）系指難溶性固體藥物以微粒狀態(tài)分散于分散介質(zhì)中形成的非均勻分散的液體藥劑。分散相微粒的大小一般在0.5～10μm之間，小的微粒可為0.1μm，大的微?？蛇_(dá)50μm或更大?；鞈覄┑姆稚⒔橘|(zhì)多為水，也有用植物油?；鞈覄儆跓崃W(xué)不穩(wěn)定的粗分散體系。
藥物可考慮制成混懸劑的情況為：①不溶性藥物需制成液體藥劑應(yīng)用；②藥物的劑量超過了溶解度而不能制成溶液劑；③兩種溶液混合由于藥物的溶解度降低而析出固體藥物或產(chǎn)生難溶性化合物；④與溶液劑比較，為了使藥物緩釋長(zhǎng)效。⑤與固體劑型比較，為了加快藥物的吸收速度，提高藥物的生物利用度。⑥固體劑型胃局部刺激性大的情況，可考慮用混懸劑。但對(duì)于毒劇藥物或劑量太小的藥物，為了保證用藥的安全性。則不宜制成混懸劑應(yīng)用。

混懸液研磨分散設(shè)備

混懸劑的質(zhì)量要求是：藥物本身化學(xué)性質(zhì)應(yīng)穩(wěn)定，有效期內(nèi)藥物含量符合要求；混懸微粒細(xì)微均勻，微粒大小應(yīng)符合該劑型的要求；微粒沉降緩慢，口服混懸劑沉降體積比應(yīng)不低于0.90，沉降后不結(jié)塊，輕搖后應(yīng)能迅速分散；混懸劑的粘度應(yīng)適宜，傾倒時(shí)不沾瓶壁；外用混懸劑應(yīng)易于涂布，不易流散；不得有發(fā)霉、酸敗、變色、異臭、異物、產(chǎn)生氣體或其他變質(zhì)現(xiàn)象；標(biāo)簽上應(yīng)注明“用前搖勻"。
混懸劑一般為液體藥劑，也包括一種干混懸劑。它是將難溶性藥物與適宜輔料制成粉末狀或顆粒狀藥劑，臨用前加水振搖即可分散成混懸液。其主要是有利于解決混懸劑在保存過程中的穩(wěn)定性問題，并可簡(jiǎn)化包裝，便于貯藏和攜帶。

混懸劑的制備應(yīng)使固體藥物有適當(dāng)?shù)姆稚⒍?，微粒分散均勻，混懸劑穩(wěn)定，再懸性好?；鞈覄┑闹苽浞椒ㄓ蟹稚⒎ê湍鄯?。
1.分散法將固體藥物粉碎、研磨成符合混懸劑要求的微粒，再分散于分散介質(zhì)中制成混懸劑。小量制備可用研缽，大量生產(chǎn)時(shí)可用分散機(jī)、膠體磨高壓均質(zhì)機(jī) 研磨分散機(jī)等機(jī)械。
分散法制備混懸劑要考慮藥物的親水性。對(duì)于親水性藥物如氧化鋅、碳酸鈣、碳酸鎂、磺胺類等，一般可先將藥物粉碎至一定細(xì)度，再采用加液研磨法制備，即1份藥物加入0.4~0.6份的溶液，研磨至適宜的分散度，zui后加入處方中的剩余液體使成全量。加液研磨可用處方中的液體，如水、芳香水、糖漿、甘油等。此法可使藥物更容易粉碎，得到的混懸微粒可達(dá)到0.1～0.5μm.對(duì)于質(zhì)重、硬度大的藥物，可采用“水飛法"制備。“水飛法"可使藥物粉碎成極細(xì)的程度而有助于混懸劑的穩(wěn)定。

混懸液研磨分散設(shè)備

GMD2000研磨機(jī)有一定輸送能力，對(duì)高固含量有一定粘稠度物料，GM2000設(shè)計(jì)了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子，進(jìn)行物料的推動(dòng)輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機(jī)座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對(duì)鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計(jì)，可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

GMD2000研磨機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封，并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻，把泄露概率降到低，保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。

混懸液研磨分散設(shè)備選型表：

研磨分散機(jī)	流量*	輸出	線速度	功率	入口/出口連接
類型	l/h	rpm	m/s	kW
GMSD2000/4	400	14,000	44	4	DN25/DN15
GMSD2000/5	1000	10,050	44	11	DN40/DN32
GMSD2000/10	3000	7,500	44	22	DN80/DN65
GMSD2000/20	8000	4,900	44	45	DN80/DN65
GMSD2000/30	20000	2,850	44	90	DN150/DN125
GMSD2000/50	60000	1,100	44	110	DN200/DN150
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到最大允許量的 10%。