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產(chǎn)品中心分散機(jī)研磨分散機(jī)GMSD2000藥用輔料二氧化tai研磨分散機(jī)
產(chǎn)品簡介
藥用輔料二氧化tai研磨分散機(jī)，是專業(yè)針對二氧化tai用于醫(yī)藥領(lǐng)域時(shí)的特性研發(fā)。二氧化tai作為藥用白色顏料，廣泛用于不透明膠囊、片劑薄膜包衣等。該設(shè)備運(yùn)用高剪切等技術(shù)，打破傳統(tǒng)設(shè)備局限，轉(zhuǎn)速遠(yuǎn)超常規(guī)，可達(dá)14000轉(zhuǎn) ，能高效破除二氧化tai團(tuán)聚現(xiàn)象，使物料充分分散 。設(shè)備材質(zhì)符合醫(yī)藥衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)，從SUS304到氧化鋯陶瓷多種可選，且具備多種聯(lián)結(jié)形式、豐富電機(jī)類型，能滿足不同生
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二氧化tai在食品和醫(yī)藥中使用二氧化tai同樣是利用了其不透明性，以提高食品和醫(yī)藥制品的裝飾增白著色效果。藥用白色顏料，具有顏料性能好，有害雜質(zhì)含量低等優(yōu)點(diǎn)，是食品著色的添加劑，具有粒度均勻，均質(zhì)性好的優(yōu)點(diǎn)，適合用于：果凍、膨化食品、糖果、涼果、口香糖、硬糖、沙拉醬、碳酸飲料和奶制品系列等食品增白著色。藥用白色顏料，具有優(yōu)異顏料性能有害雜質(zhì)的量低，適合制造不透明、片劑薄膜包衣、霜?jiǎng)⑺幱冒b材料、藥用油墨，也可作為化妝品和食品的添加劑。具有粒度均勻，均質(zhì)性好的優(yōu)點(diǎn)，去粒子水和明膠中均質(zhì)良好，無絮凝沉淀物。
研磨分散機(jī)對于研磨藥用輔料二氧化tai的優(yōu)勢：
一、縮短工藝時(shí)間。SID高剪切乳化分散設(shè)備可以迅速地混合分散二氧化tai粉末，并消除結(jié)塊和團(tuán)聚。也提供GLD和GLC粉體/液體混合機(jī)，將粉體直接加入液體，無需循環(huán)處理，一次性通過便可成型。
二、提高品質(zhì)。SID高剪切混合機(jī)可以打碎結(jié)塊粉體，并與液體充分混合。這樣可以改善產(chǎn)品光澤和透明度，這兩個(gè)特征由分散好壞直接決定。
三、減少資金投入。SID磨機(jī)可以納米程度縮小粒徑，達(dá)到窄粒徑分布。分散研磨設(shè)備的流量比同類研磨設(shè)備高出很多，但也可達(dá)到相類似的效果。模塊化設(shè)計(jì)的SID 2000系列產(chǎn)品，可以幫助客戶節(jié)約資金投資。
SID公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。將SID高剪切膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良，在原來GM2000系列的基礎(chǔ)上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤（均質(zhì)盤、乳化盤）。從而形成研磨分散機(jī)，先研磨后分散（均質(zhì)、乳化），將物料的處理一步到底的完成。
研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
第yi級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來滿 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。
【GMD2000系列研磨分散機(jī)的特點(diǎn)】
① 線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨
② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。
③ 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離
④ 在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
藥用輔料二氧化tai研磨分散機(jī)GMD2000設(shè)備型號參數(shù)表：
研磨分散機(jī) | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
GMSD2000/4 | 400 | 14,000 | 44 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1000 | 10,050 | 44 | 11 | DN40/DN32 |
GMSD2000/10 | 3000 | 7,500 | 44 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 8000 | 4,900 | 44 | 45 | DN80/DN65 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 44 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 44 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到最大允許量的 10%。 | |||||
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